چشم انداز کاربردی از فناوری پالس پالس بالایی بالا

چشم انداز کاربردی از فناوری پالس پالس بالایی بالا (HIPIMS)

برای واریز فیلم های تزئینی متراکم و با کارایی بالا ، لازم است به دنبال روش های کارآمد تر تخلیه پلاسما باشید. فناوری پالس پالس نرخ یونیزاسیون بالا (HIPIMS) که در سالهای اخیر توسعه یافته است ، دارای ویژگی های چگالی پلاسما بالا ، میزان یونیزاسیون بالای مواد پراکنده ، تعداد متوسط بار یون متوسط ، انرژی یون بالا و بخش بزرگی از یون های تشکیل دهنده فیلم است. فیلم تهیه شده توسط فناوری HIPIMS دارای نقص کمتری ، سطح صاف تر و یک سطح متراکم تر است و از سختی ، نیروی اتصال ، مقاومت سایش و مقاومت در برابر خوردگی برخوردار است. با پیشرفت مستمر این فناوری ، انتظار می رود جهش جدیدی را برای روکش پاشش به جلو بیاورد. مهمتر از همه ، فناوری پوشش تزئینی PVD در فرآیند توسعه ما با چالش های بسیاری روبرو است ، اما از طریق اکتشاف و نوآوری مداوم ، همچنین فرصت هایی را برای پیشرفت بیشتر فناوری فراهم می کند. در آینده ، با مطالعه عمیق و راه حل این مشکلات ، فناوری پوشش تزئینی PVD نقش بیشتری در زمینه های بیشتر خواهد داشت.

شرکت IKS PVD ، دستگاه پوشش تزئینی ، دستگاه پوشش ابزار ، دستگاه پوشش DLC ، دستگاه پوشش نوری ، خط پوشش خلاء PVD و پروژه Turn-Key در دسترس است. اکنون با ما تماس بگیرید ، ایمیل: iks.pvd@foxmail.com