اثر پراش برانگیختگی در ترکیب و ساختار فیلمهای چندگانه یون سازی فیلمهای تیالن

1. با افزایش ضربان نبض و چرخه کار، ذرات بزرگ روی سطح به طور قابل توجهی کاهش می یابد و اثر توپوگرافی سطح بهتر است.

2. هنگامی که مقدار حداکثر ولتاژ تعصب افزایش می یابد، نرخ رسوب دهی کوچکتر می شود. هنگامی که نسبت وظیفه افزایش می یابد، میزان رسوب اول ابتدا افزایش می یابد و سپس کاهش می یابد و وقتی نسبت وظیفه 40 درصد است، نرخ رسوب بزرگترین است.

3. درصد اتمی Al عمدتا تحت تأثیر مقدار حداکثر تعصب پالس قرار می گیرد و با افزایش ولتاژ تعصب کاهش می یابد. درصد اتم Ti به طور عمده توسط چرخه کار تحت تاثیر قرار می گیرد و با افزایش چرخه کار کاهش می یابد.

4. با افزایش تعصب پالس، سختی فیلم ابتدا افزایش می یابد و سپس کاهش می یابد. با افزایش چرخه کار، سختی فیلم ابتدا افزایش می یابد و سپس کاهش می یابد و تغییرات آشکاری وجود دارد.