ویژگی های پردازش پرتو یونی:

ویژگی های پردازش پرتو یونی:

(1) از آنجا که پرتو یونی با تمرکز از طریق سیستم های نوری الکترونیکی قابل اسکن است ، مواد بمباران کننده پرتو یونی لایه اتم ها را توسط لایه حذف می کنند ، چگالی پرتو یون و انرژی یون دقیقا قابل کنترل است ، بنابراین اچ یون سازی می تواند نانو متر (0.001 نانومتر) دقت پردازش را بدست آورد. پوشش یونی را می توان در سطح زیر میکرون کنترل کرد و عمق و غلظت کاشت یون را می توان بسیار دقیق کنترل کرد. بنابراین ، پرتوهای یون دقیق ترین و میکرو پردازش در بین تمام روش های ویژه پردازش است و اساس فناوری مدرن پردازش نانومتر است.

(2) از آنجا که پردازش پرتوی یون در خلاء زیاد انجام می شود ، آلودگی کمتری دارد و به خصوص برای پردازش فلزات به راحتی اکسیده شده ، مواد آلیاژی و مواد نیمه هادی با خلوص بالا مناسب است.

(3) پردازش پرتوهای یون با بمباران اتم ها روی سطح ماده با یونها انجام می شود. این یک اثر میکرو است ، فشار ماکرو بسیار ناچیز است ، بنابراین استرس پردازش ، تغییر شکل حرارتی و سایر کیفیت پردازش کوچک و بالا ، مناسب برای انواع مواد و پردازش قطعات سختی کم است.

(4) شدت ، موقعیت و تمرکز پرتوی الکترون را می توان مستقیماً توسط میدان مغناطیسی یا الکترون کنترل کرد ، بنابراین کل فرایند راحت است که ابتدا اتوماتیک شود. به خصوص در معرض پرتو الکترونی ، از محل پردازش گرفته تا اسکن گرافیک های پردازش. می تواند خودکار باشد. در حین حفاری و برش پرتو الکترونی ، سوراخ های شکل خاص با کنترل الکتریکی می توانند برای برش خمیده پردازش شوند.

دستگاه پوشش نوری پرتو IKS PVD Electron ， IKS-OPT2700 ، جزئیات بیشتر ، با تماس با ما خوش آمدید iks.pvd@foxmail.com