MailIKS.PVD@foxmail.com
Phone+86-150-40177271
afزبان
  • فارسی
  • English
  • magyar
  • Türkçe
  • Čeština
  • Latviešu
  • Italiano
  • bosanski
  • русский
  • suomi
  • Ελληνικά
  • Melayu
  • Français
  • 日本語
  • 한국어
  • Deutsch
  • Español
  • Português
  • Việt Nam
  • عربي
  • ไทย
  • Eesti
  • Gaeilgenah Éireann
  • Bai Miaowen
  • íslenska
  • Cymraeg
  • Български
  • اردو
  • Polski
  • hrvatski
  • українська
  • Lietuvių
  • עברית
  • România limbi
  • dansk
  • Norsk
  • Nederlands
  • Svenska
  • slovenčina
  • slovenščina
  • हिंदी
  • Indonesia
  • Malti
  • Kreyòl Ayisyen
  • Català
  • বাংলা
  • Srbija jezik (latinica)
  • O'zbek
RectangleIKS PVD Technology (Shenyang) Co.,Ltd
Nav
  • Advanced Search
  • صفحه اصلی
  • در باره ما
    • پرسش و پاسخ
  • محصول
    • تجهیزات پوشش خلاء
    • لوازم جانبی پوشش خلاac
    • محصولات داغ
    • قطعات یدکی ماشین آلات
    • دستگاه پوشش فیلم مداوم
    • کوره های خلاac &
  • برنامه های کاربردی
    • پوشش تزئینی
    • پوشش نوری و عملکرد
  • اخبار
  • دانش
  • با ما تماس بگیرید
  • وبلاگ
  • بازخورد
  • VR
جستجو
Banner
صفحه اصلی /

دانش

hot knowledges
  • قضاوت در مورد نشت سیستم خلاء

    قضاوت در مورد نشت سیستم خلاء

    DateAug 14, 2025
  • قضاوت نشت هوا در سیستم های خلاء

    قضاوت نشت هوا در سیستم های خلاء

    DateAug 13, 2025
  • تشخیص نشت خلاء

    تشخیص نشت خلاء

    DateAug 12, 2025
  • پوشش پاشش
    Date2018-5-12

    پوشش پاشش

  • مزایای پخت یون
    Date2018-5-11

    مزایای پخت یون

  • اصل اساسی پوشش پراکنده برای دستگاه پوشش خلاء
    Date2018-5-10

    اصل اساسی پوشش پراکنده برای دستگاه پوشش خلاء

    اصل اساسی پوشش پراکنده برای دستگاه پوشش خلاء
  • پیشرفت جدید تکنولوژی تمیز کردن سونوگرافی
    Date2018-5-09

    پیشرفت جدید تکنولوژی تمیز کردن سونوگرافی

    پیشرفت جدید تکنولوژی تمیز کردن سونوگرافی
  • برنامه های تمیز کردن سونوگرافی
    Date2018-5-08

    برنامه های تمیز کردن سونوگرافی

  • عوامل موثر بر اثر تمیز کردن التراسونیک
    Date2018-5-07

    عوامل موثر بر اثر تمیز کردن التراسونیک

  • اصل تمیز کردن سونوگرافی
    Date2018-4-28

    اصل تمیز کردن سونوگرافی

  • پس از درمان و پیش درمان |  مزایای تمیز کردن سونوگرافی
    Date2018-4-27

    پس از درمان و پیش درمان | مزایای تمیز کردن سونوگرافی

  • تأثیر ولتاژ بی اختیاری پالس بر ترکیب و ساختار فیلم های نازک TiAlN با چندضلعی ...
    Date2018-4-21

    تأثیر ولتاژ بی اختیاری پالس بر ترکیب و ساختار فیلم های نازک TiAlN با چندضلعی ...

    تأثیر ولتاژ بی اختیاری پالس بر ترکیب و ساختار فیلم های نازک TiAlN با چندضلعی یونی
  • چگونگی کاهش میزان نشت سیستم خلاء
    Date2018-4-20

    چگونگی کاهش میزان نشت سیستم خلاء

    چگونگی کاهش میزان نشت سیستم خلاء
  • مزایای پوشش عینک
    Date2018-4-19

    مزایای پوشش عینک

    مزایای پوشش عینک
  • مطالعه در مورد چسبندگی فیلم های الماس مانند کربن (DLC) با استفاده از تکنولوژی...
    Date2018-4-18

    مطالعه در مورد چسبندگی فیلم های الماس مانند کربن (DLC) با استفاده از تکنولوژی...

    مطالعه در مورد چسبندگی فیلم های الماس مانند کربن (DLC) با استفاده از تکنولوژی پالس یون پوشش - پدیده تجربی
صفحه اصلی 76 77 78 79 80 81 82 صفحه آخر 79/87

با ما تماس بگیرید

  • Locationشماره83-42، Puhe Road, Shenbei New District, Shenyang, 110122, Liaoning, China
  • Phone+86-150-40177271
  • Eail1IKS.PVD@foxmail.com

ناوبری سریع

  • صفحه اصلی
  • در باره ما
  • محصول
  • برنامه های کاربردی
  • اخبار
  • دانش
  • با ما تماس بگیرید
  • وبلاگ
  • بازخورد
  • VR
  • نقشه سایت

رده محصول

  • تجهیزات پوشش خلاء
  • لوازم جانبی پوشش خلاac
  • محصولات داغ
  • قطعات یدکی ماشین آلات
  • دستگاه پوشش فیلم مداوم
  • کوره های خلاac &

استعلام های ارسالی

برای پرس و جو در مورد محصولات ما، لطفا ایمیل خود را به ما بگذارید و در عرض 24 ساعت با ما تماس بگیرید.
پرس و جو در حال حاضر
حق چاپ © IKS PVD Technology (Shenyang) Co.,Ltd کلیه حقوق محفوظ است.