پوشش PVD (پوشش یون) ویژگی ها و مزایای فناوری

پوشش PVD (پوشش یون) ویژگی ها و مزایای فناوری - در مقایسه با پوشش تبخیر خلاء پوشش پاششی خلا ، پوشش PVD دارای مزایای زیر است:
A. چسبندگی قوی بین لایه فیلم و سطح قطعه کار ، با دوام تر و مقاوم در برابر سایش
B. عملکرد پراش خوب یونها را می توان با شکل پیچیده قطعه کار اندود کرد
C. نرخ رسوب فیلم سریع است و بازده تولید بالا است
D. طیف گسترده ای از لایه های پوشش
ه) لایه فیلم دارای عملکرد پایدار و ایمنی بالایی است (دارای مجوز FDA بوده و می تواند در بدن انسان کاشته شود).

شرکت IKS PVD ، دستگاه پوشش تزئینی ، دستگاه پوشش ابزار ، دستگاه پوشش نوری ، خط پوشش خلا PVD، پروژه کلید کلید در دسترس است.همین حالا با ما تماس بگیرید ، ایمیل:iks.pvd@foxmail.com