فن آوری PVD چهار مرحله فرآیند

فن آوری PVD چهار مرحله فرآیند (1) تمیز کردن قطعه کار: قرار دادن منبع تغذیه دی سی ، تخلیه درخشش آرگون به عنوان یون آرگون ، بمباران یون آرگون از سطح قطعه کار ، ذرات سطح و قطعات کثیف قطعه کار پرتاب شد. (2) گاز زدایی از مواد آبکاری: یعنی بعد از معرفی جریان متناوب ، تبخیر مواد آبکاری. (3) انتقال یونهای مواد آبکاری: پس از برخورد و میدان الکتریکی با ولتاژ بالا ، اتمها ، مولکولها یا یونها از منبع گاززدایی با سرعت زیاد به قطعه کار هجوم می آورند. (4) اتمهای مواد ، مولکولها یا یونهای آبکاری شده روی بستر قرار می گیرند: هنگامی که یونهای ماده تبخیر روی سطح قطعه کار از تعداد یونهای ریخته شده بالاتر می روند ، آنها به تدریج جمع می شوند تا لایه ای از پوشش محکم به سطح سطح چسبیده شود. قطعه کار پس از یونیزه شدن ذرات از آبکاری یون ، ماده تبخیر سه هزار تا انرژی جنبشی پنج هزار ولت ولت ، مصنوعات بمباران پرسرعت ، نه تنها سرعت رسوب سریع است ، بلکه قادر به نفوذ به سطح است و تشکیل یک عمق لایه انتشار ماتریس عمق انتشار رابط آبکاری یونی چهار تا پنج میکرون است ، یعنی می گویند ، از عمق انتشار خلاء پوشش دهانه عمیق دهها بار ، حتی صد برابر ، و خیلی سریع به یکدیگر چسبیده است.

IKS PVD Technology (Shenyang) Co.، Ltd manufacturer تولید کننده دستگاه پوشش خلاء PVD از چین ، محصول اصلی ما: مهسین پوشش تزئینی ، دستگاه پوشش ابزار ، دستگاه پوشش نوری ، خط پوشش PVD. جزئیات بیشتر ، با: iks.pvd@foxmail تماس بگیرید. کام