دستگاه های پوشش خلاء PVD در دسته های مختلفی طبقه بندی می شوند
Apr 17, 2023| PVD (Physical Vapor Deposition) فرآیندی است که برای رسوب یک لایه نازک از مواد بر روی سطح ماده دیگر با استفاده از ابزارهای فیزیکی استفاده می شود. پوشش PVD به طور گسترده در صنایع مختلف از جمله خودروسازی، هوافضا، نیمه هادی، پزشکی و حتی در تجهیزات خانگی استفاده می شود. پوشش PVD مزایای متعددی مانند افزایش دوام، مقاومت سایشی و بهبود ظاهر را ارائه می دهد.
دستگاه های پوشش خلاء PVD بسته به کاربرد مورد نظر و پیکربندی فرآیند، در دسته های مختلفی طبقه بندی می شوند. در زیر برخی از رایج ترین دستگاه های پوشش خلاء PVD آورده شده است:
1. دستگاه پوشش PVD کندوپاش مغناطیسی
دستگاه پوشش PVD کندوپاش مگنترون متداول ترین دستگاه پوشش خلاء در صنعت است. برای قرار دادن لایه های نازک از مواد فلزی یا غیرفلزی بر روی یک بستر ایده آل است. دستگاه پوشش PVD کندوپاش مگنترون از تکنیک تخلیه الکتریکی برای تبخیر مواد هدف حالت جامد استفاده می کند. اتم ها یا مولکول های تبخیر شده ماده مورد نظر روی سطح زیرلایه رسوب می کنند.
2. دستگاه پوشش PVD پرتو الکترونی
دستگاه پوشش PVD پرتو الکترونی یکی دیگر از سیستم های پوشش PVD محبوب است که از پرتو الکترونی برای تبخیر مواد مورد نظر استفاده می کند. تفنگ پرتو الکترونی در خارج از محفظه خلاء نصب شده و به سمت ماده هدف هدایت می شود. الکترون‌های پرانرژی که مواد هدف را بمباران می‌کنند منجر به تبخیر مواد هدف می‌شود که سپس روی سطح زیرلایه رسوب می‌کند.
3. دستگاه پوشش PVD یون قوس
دستگاه پوشش PVD یون قوس از یک قوس الکتریکی برای تبخیر مواد مورد نظر استفاده می کند. فرآیند قوس الکتریکی گرمای شدیدی تولید می‌کند که ماده مورد نظر را تبخیر می‌کند و سپس روی سطح زیرلایه رسوب می‌کند. این دستگاه پوشش PVD برای رسوب دادن پوشش های فلزی بر روی لایه های مختلف از جمله پلاستیک، فلز و شیشه ایده آل است.
4. دستگاه پوشش PVD تبخیر حرارتی
دستگاه پوشش PVD تبخیر حرارتی از گرمایش مقاومتی برای تبخیر مواد مورد نظر استفاده می کند. ماده مورد نظر در دماهای بسیار بالا گرم می شود و منجر به تبخیر اتم ها یا مولکول هایی می شود که سطح زیرلایه را می پوشانند. این دستگاه پوشش برای رسوب گذاری لایه های نازک فلزات یا آلیاژهای خالص با نقطه ذوب پایین ایده آل است.
5. دستگاه پوشش PVD رسوب بخار شیمیایی
دستگاه پوشش شیمیایی PVD رسوب دهی بخار شیمیایی شامل واکنش شیمیایی یک پیش ماده فاز گاز با سطح زیرلایه است. این واکنش منجر به رسوب یک لایه لایه نازک بر روی بستر می شود. این دستگاه برای ته‌نشینی لایه‌های نازک سرامیک، الماس و انواع مختلف مواد دیگر که به فرآیندهای رسوب‌گذاری در دمای پایین نیاز دارند، ایده‌آل است.
در نتیجه، فناوری دستگاه پوشش خلاء PVD در سال‌های اخیر پیشرفت چشمگیری داشته است و طیف وسیعی از گزینه‌ها را برای کاربردهای مختلف صنعتی ارائه می‌دهد. بسته به مواد مورد نظر، پیکربندی فرآیند و کاربرد، می توان دستگاه پوشش PVD مناسب را برای دستیابی به نتایج دلخواه انتخاب کرد.
شرکت IKS PVD، دستگاه پوشش تزئینی، دستگاه پوشش ابزار، دستگاه پوشش DLC، دستگاه پوشش نوری، خط پوشش خلاء PVD، پروژه کلید در دسترس است. اکنون با ما تماس بگیرید، ایمیل: iks.pvd@foxmail.com