چندین روش پوشش دستگاه پوشش خلاء

چندین روش پوشش دستگاه پوشش خلاء

تکنولوژی پوشش خلاء، به سادگی صحبت کردن، در یک محیط خلاء، استفاده از تبخیر، کندوپاش، و راه های دیگر برای ساطع ذرات مواد فیلم، رسوب در فلز، شیشه، سرامیک، نیمه هادی ها، قطعات پلاستیکی، و اشیاء دیگر برای تشکیل یک لایه پوشش است. از روش های اصلی آن می توان به موارد زیر اشاره کرد:

1. تبخیر خلاء
اصل آن تحت شرایط خلاء، با ماده فیلم گرمایشی تبخیر کننده است، به طوری که گازسازی یا سابلیماسیون آن، جریان ذرات تبخیر مستقیماً به بستر شلیک می شود، و رسوب بر روی بستر برای تشکیل یک فناوری فیلم جامد است.
2. پوشش کندوپاش
در شرایط خلاء، ولتاژ بالا به کاتد متصل می شود، تخلیه درخشش هیجان زده است، و یوون های آرگون با بار مثبت هدف کاتد را تحت تأثیر قرار می دهند به طوری که ذرات فیلم ساطع می شوند و بر روی بستر رسوب می کنند تا یک لایه فیلم تشکیل شود.
3. آبکاری با يون
آبکاری يون معمولاً به روش پوششی اطلاق می شود که تعداد زيادی يون در طول فرایند پوشش توليد می کند. در طول شکل گیری فیلم، بستر همیشه توسط ذرات پران انرژی بمباران می شود و فیلم دارای قدرت و نیروی پیوندی بسیار قوی است.
4. پوشش سیم پیچ خلاء
پوشش سیم پیچ خلاء نوعی تکنولوژی پوشش مداوم بر روی سطح فیلم انعطاف پذیر با استفاده از روش های مختلف پوشش برای دستیابی به برخی خواص عملکردی و تزئینی خاص ماتریس انعطاف پذیر است.

شرکت IKS PVD، دستگاه پوشش تزئینی، دستگاه پوشش ابزار، دستگاه پوشش DLC، دستگاه پوشش نوری، خط پوشش خلاء PVD، پروژه turn-key در دسترس است. اکنون با ما تماس بگیرید، ایمیل:iks.pvd@foxmail.com