مشکل یکنواختی فیلم مگنترون اسپری

یکنواختی فیلم اسپکترومغناطیسی مگنترون یک شاخص مهم است بنابراین لازم است که عوامل موثر بر یکنواختی اسپکترومغناطیسی مگنترون را بررسی کنیم تا بهتر بتوانیم پوششهای یکنواخت را بدست آوریم. به عبارت ساده، اسپکترومغناطیس مگنترون اشاره به آن دارد که الکترونها حرکتی مارپیچی در اطراف سطح هدف را تحت محدودیت میدان مغناطیسی بسته در یک میدان الکترومغناطیسی متعامد ایجاد می کنند. در طول حرکت، الکترونها به گاز کاری (گاز آرگون) ضربه می زنند تا مقدار زیادی یون های آرگون را یونیزه کنند. در میدان الکتریکی، یونهای آرگون به سرعت هدف را بمباران می کنند و یون های اتمی هدف (یا مولکول ها) در بستر قرار می گیرند تا یک فیلم نازک ایجاد کنند.

بنابراین، برای رسیدن به یک پوشش یکنواخت، لازم است که یونهای هدف (یا مولکول) اتم هدف را به طور یکنواخت تفکیک کنیم، که نیازمند یونهای آرگون یکنواخت هدف را بمباران می کنند. از آنجایی که یونهای آرگون، بمباران هدف را تحت تاثیر میدان الکتریکی تسریع می کنند، میدان الکتریکی مورد نیاز است که یکنواخت باشد. یونهای آرگون از الکترونهای متصل به میدان مغناطیسی بستگی دارند و الکترونها به طور مداوم در طول حرکت حرکت می کنند که نیازمند میدان مغناطیسی یکنواخت و توزیع آرگون یکنواخت است. با این حال، در دستگاه های اسپکترومغناطیسی مگنترون، این عوامل دشوار است به طور کامل یکنواخت، و لازم است به بررسی اثر ناهمواری آنها بر یکنواختی تشکیل فیلم. در واقع، یکنواختی میدان مغناطیسی و یکنواختی گاز کارایی مهمترین عوامل موثر بر یکنواختی تشکیل فیلم است. میدان مغناطیسی بزرگ به معنی ضخامت فیلم بزرگ است و جهت میدان مغناطیسی نیز عامل مهمی برای یکنواختی است. با توجه به فشار هوا، تحت یک فشار معینی، فیلم با فشار هوا زیاد ضخامت زیادی دارد.