روش وکیوم پوشش خلاء

{{0} method روش و مواد پوشش خلاء:
(1) تبخیر خلاء: بستر را که باید پوشانده شود تمیز کنید و آن را در اتاق پوشش قرار دهید. بعد از تخلیه ، مواد غشایی را تا دمای بالا گرم کنید تا بخار در حدود {{0} {} 2}} باشد. {{2} pa و باعث شود که مولکولهای بخار به سطح زیر لایه پرواز کرده و از آن متراکم شوند. یک فیلم تشکیل دهید
(2) لکه کاتدی: قرار دادن بستر روبرو مقابل کاتد ، دسترسی به گاز بی اثر مانند آرگون) باید داخل ساختمان باشد ، برای اینکه فشار را فشار دهید حدود 1 1} است. 33 ~ { {1}} 3 3 Pa ، کاتد می تواند به منبع تغذیه dc} 0} v 000000 DC متصل شود و تحریک تخلیه درخشش ، کاتد برخورد تصادفی یون آرگون با بار مثبت ، تزریق آن را اتمی ، لکه دار کند. خارج از اتم ها توسط غشاء در جو بی ثمر به بستر تشکیل می شود.
(3) رسوب بخار شیمیایی: فرآیند رسوب فیلمهای نازک با تجزیه حرارتی ترکیبات فلزی انتخابی یا ترکیبات آلی.
(4) آبکاری یونی: در اصل ، آبکاری یونی ترکیبی آلی از تبخیر خلاء و پاشیدن کاتد است و از مشخصات فنی هر دو برخوردار است.

IKS PVD optical coating machine IKS-OPT2700, More details, contact us now, E-mail: iks.pvd@foxmail.com