رسوب بخار شیمیایی (CVD)
May 19, 2023| رسوب بخار شیمیایی (CVD) یک تکنیک رسوب لایه نازک است که به طور گسترده بر اساس واکنش های شیمیایی بین واکنش دهنده های گازی و سطوح بستر مورد استفاده قرار می گیرد. در یک CVD، گازهای پیش ساز به محفظه واکنش وارد می شوند و تا دمای بالا گرم می شوند تا واکنش شیمیایی رسوب لایه های جامد بر روی بستر را تسهیل کنند.
شرکت IKS PVD، دستگاه پوشش تزئینی، دستگاه پوشش ابزار، دستگاه پوشش DLC، دستگاه پوشش نوری، خط پوشش خلاء PVD، پروژه کلید در دسترس است. اکنون با ما تماس بگیرید، ایمیل: iks.pvd@foxmail.com
←
یک جفت: فناوری پوشش خلاء در کاربردهای الکترونیکی
بعدی: پیکربندی های کندوپاش مگنترون
→
ارسال درخواست