رسوب بخار فیزیکی (PVD): رشد لایه نازک تحت سلطه فرآیندهای فیزیکی
Oct 24, 2025| رسوب بخار فیزیکی (PVD): رشد لایه نازک تحت سلطه فرآیندهای فیزیکی
هسته PVD تبدیل مواد جامد هدف به ذرات گازی (اتم‌ها، مولکول‌ها یا یون‌ها) از طریق روش‌های فیزیکی است و سپس آنها را بر روی سطح بستر از طریق انتقال فاز-گاز برای تشکیل یک لایه قرار می‌دهد. کل فرآیند شامل هیچ واکنش شیمیایی نمی‌شود (یا فقط با چند-فرایند کمکی شیمیایی همراه است). هسته فرآیند آن "تبدیل حالت ماده + رسوب بخار" است که برای تهیه لایه های نازک ساخته شده از فلزات، آلیاژها، برخی از سرامیک ها و مواد دیگر مناسب است.
شرکت IKS PVD، دستگاه پوشش تزئینی، دستگاه پوشش ابزار، دستگاه پوشش DLC، دستگاه پوشش نوری، خط پوشش خلاء PVD، پروژه کلیدی نوبتی موجود است. اکنون با ما تماس بگیرید، ایمیل: iks.pvd@foxmail.com
←
یک جفت: رسوب کندوپاش PVD
بعدی: رسوب تبخیر
→
ارسال درخواست