PVD پوشش (پوشش یونی) فناوری

فن آوری پوشش PVD (پوشش یونی) ، اصل خاص آن در شرایط خلاء ، استفاده از ولتاژ کم ، فناوری تخلیه قوس الکتریکی بزرگ ، استفاده از دبی گاز برای تبخیر از مواد مورد نظر و مواد تبخیر شده و یونیزاسیون گاز ، استفاده از الکتریکی شتاب میدان ، تبخیر مواد و محصولات واکنش آن در قطعه کار سپرده شده است.
ویژگی های لایه فیلم پوشش PVD ، با استفاده از فن آوری پوشش PVD در خارج از لایه فیلم ، با سختی بالا ، مقاومت در برابر سایش بالا (ضریب اصطکاک کم) ، مقاومت در برابر خوردگی خوب و پایداری شیمیایی ، عمر فیلم طولانی تر است. در عین حال ، لایه فیلم می تواند عملکرد تزئینی قطعه کار را تا حد زیادی بهبود بخشد.

خرید دستگاه پوشش PVD ， با IKS PVD تماس بگیرید ， ما تولید کننده دستگاه پوشش خلاء PVD از چین هستیم.

ایمیل iks.pvd@foxmail.com