مسموميت هدف در اسپکترومغناطيسي ماگنتررون چیست؟ عوامل و راهکارهای تاثیر کلی چیست؟

1. مسمومیت هدف

◆ انباشت یون مثبت

هنگامی که هدف مسموم می شود، یک فیلم عایق روی سطح هدف شکل می گیرد. وقتی که یونهای مثبت به سطح هدف کاتد برسند، به دلیل مانع از لایه عایق، به طور مستقیم نمی توانند وارد شوند، اما در سطح هدف انباشته می شوند. بنابراین، میدان سرد به راحتی تولید می شود و همچنین تخلیه قوس - روشنایی قوس. به طوری که اسپری شدن کاتد نمی تواند ادامه یابد.

◆ آنود ناپدید می شود

هنگامی که هدف مسموم می شود، یک فیلم عایق بر روی دیوار محفظه خلاء زمین نیز ذخیره می شود. الکترون هایی که به آند می رسند نمی توانند وارد آند شوند و ناپدید می شوند.

2. عوامل موثر در مسمومیت هدف

عوامل موثر بر مسمومیت هدف، عمدتا نسبت گاز و گازوئیل واکنشی هستند. گاز واکنش بیش از حد موجب مسمومیت هدف می شود. در فرآيند فرآيند آبشستگي واكنشي، ناحيه كانال اسپكتوري در سطح هدف، توسط محصول واكنش پوشیده شده است، یا محصول واكنش برای كشف سطوح فلزی كه باز كردن و چرخش آنها باز می شود، پوست كردن می شود.

اگر میزان تشکیل ترکیبات بیشتر از میزان است که ترکیب شده است، منطقه تحت پوشش این ترکیب افزایش می یابد. با یک قدرت مشخص مقدار گاز واکنش دهنده در تشکیل ترکیبات افزایش می یابد و میزان تشکیل ترکیبات افزایش می یابد. اگر مقدار گاز واکنش دهنده بیش از حد افزایش یابد، ناحیه تحت پوشش این ترکیب افزایش می یابد.

اگر جریان گاز واکنش را نمی توان در زمان تنظیم کرد، نرخ افزایش سطح پوشش ترکیب نمی تواند سرکوب شود، و کانال اسپری شدن بیشتر از این ترکیب، هنگامی که هدف تفنگ کاملا توسط ترکیب پوشش داده می شود، هدف کاملا مسموم شده است.

3. راه حل مسمومیت هدف

◆ قدرت فرکانس متوسط یا قدرت RF را بپذیرید.

◆ یک حلقه بسته را کنترل کنید تا میزان گاز واکنش دهنده را کنترل کنید.

◆ از اهداف دوقلو استفاده کنید

◆ کنترل تغییر حالت پوشش: قبل از پوشش، منحنی اثر hysteresis از مسمومیت هدف را جمع آوری کنید، جریان ورودی را در مقابل مسمومیت هدف کنترل کنید، و اطمینان حاصل کنید که روند همیشه در حالت است که قبل از رسوب سرعت به شدت کاهش می یابد.